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鹵水是作為質(zhì)料制備氫氧化鎂最佳的技術(shù)條件

瀏覽:451 作者: 來源: 時間:2023-11-26 分類:
  氫氧化鎂?歸于一種粒徑較小、水中懸浮性好、水化率低并有必定粒徑散布范圍的白色粉末狀物質(zhì),其多應用于取向硅鋼片的制造,可以在硅鋼片的外表構(gòu)成一層杰出的絕緣層,使硅鋼片的絕緣功能得到進步。

  氫氧化鎂歸于一種粒徑較小、水中懸浮性好、水化率低并有必定粒徑散布范圍的白色粉末狀物質(zhì),其多應用于取向硅鋼片的制造,可以在硅鋼片的外表構(gòu)成一層杰出的絕緣層,使硅鋼片的絕緣功能得到進步。出產(chǎn)制備硅鋼級氧化鎂的辦法主要是鹵水-碳銨法和白云石-碳化法。前者在技能上對比成熟,出產(chǎn)出的產(chǎn)品質(zhì)量牢靠穩(wěn)定,但在堿式碳酸鎂制備中因為反響系統(tǒng)濃度太低,氯化銨這類副產(chǎn)品難以回收,簡單形成環(huán)境污染。  后者則因技術(shù)雜亂、出產(chǎn)成本太高、出產(chǎn)出的產(chǎn)品質(zhì)量差而沒能得到廣泛應用。對此研究人員剖析了以鹽湖水氯鎂石制造的鹵水為質(zhì)料,經(jīng)過氨法沉鎂技能先制取出中間體氫氧化鎂,再在高溫下煅燒得硅鋼級氧化鎂的辦法?! Ⅺ}湖水氯鎂石制造出來的鹵水作為質(zhì)料制備氫氧化鎂最佳的技術(shù)條件是:鹵水濃度為413mol/L,反響底液的pH值為11,氨水的pH值1315,滴加鹵水的速度為117mL/min,反響溶液的pH值一直保持在11?! ⒌玫降臍溲趸V進行干燥后,在溫度條件為950e的環(huán)境中煅燒2個小時,之后將其置于真空干燥箱中冷卻至室溫,將適當?shù)囊掖继砑拥嚼鋮s后的氧化鎂粉末中在球磨機中依照500r/min的速度進行1小時球磨?! ∵@么得到的產(chǎn)品純度在98%以上,可以到達51146Lm的平均粒徑,粒度的散布較為均勻,有杰出的渙散功能,水化率為315%,恰好可以與硅鋼級氧化鎂的請求相符合?! 溲趸V的效果第一是在硅鋼片制造中充任高溫退火隔絕劑,一起其還可以跟硅構(gòu)成硅酸鎂玻璃體絕緣涂層,在高溫反響中其還具有將硅鋼中的硫和磷等雜質(zhì)去掉的效果??墒?,并不非一切的氧化鎂都可以到達硅鋼的制造需求,硅鋼級氧化鎂需具有如下特別的品質(zhì)?! ?、要有較高的化學純度,防止在高溫環(huán)境中對硅酸鎂涂層的構(gòu)成形成不良影響?! ?、在水中必需求有杰出的懸浮功能。在制造硅鋼片的過程中需求把氧化鎂涂布于硅鋼片的外表時,通常會選用由氧化鎂跟水混組成的漿體進行涂布操作,為了能防止氧化鎂在涂布過程中淀積,必需求確保氧化鎂在水中有較好的懸浮功能?! ?、必需求有較低的水化率。水化率是指在必定的溫度條件下和必定的時刻內(nèi),氧化鎂在水中生成氫氧化鎂的百分率。將硅鋼片的外表涂布氧化鎂漿體后卷成鋼卷,放到罩式爐中退火。退火的時分,首先要先將水分排去。生成的氫氧化鎂份額越高,排水所需求的時刻就越長,另一方面水分過多易 和鐵生成鐵的氧化物,影響硅酸鎂膜層的構(gòu)成,氧化鎂的水化率是衡量硅鋼氧化鎂的重要指標?! ?、必需求有必定的活性?;钚愿叩难趸V簡單跟硅的氧化物反響生成硅酸鎂玻璃體,但活性過高會使氧化鎂的水化率進步,這又不利于硅酸鎂膜的生成,因而關(guān)于氧化鎂的活性巨細應歸納思考?! ?、氫氧化鎂漿液對硅鋼片外表要有較強的豁結(jié)性。這么,氧化鎂涂布到硅鋼片上單調(diào)后,經(jīng)過強振蕩跟沖突不會脫落下來。